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【日本專家】EUV微影與光阻劑的最先端技術 | 主題資料庫 | 三建產業資訊

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IC製造

【日本專家】EUV微影與光阻劑的最先端技術

6 小時 24T00072
EUV 微影 光阻劑 lithography Photoresist Resist DSA 定向自組裝
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隨著移動裝置、資訊設備等的性能要求不斷提高,記憶體、微處理器等半導體的高度積體化需求也日益增加。 2022年,3nm邏輯節點(最小圖形尺寸12nm)已經到來,並計劃於今年迎來2nm邏輯節點(最小圖形尺…

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