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【日本專家】如何防止Si晶圓表面污染的超清潔化技術 | 主題資料庫 | 三建產業資訊

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IC製造

【日本專家】如何防止Si晶圓表面污染的超清潔化技術

6 小時 24T00069
矽晶圓 清潔 污染 表面 顆粒 良率
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  隨著ULSI半導體元件微細化,半導體元件的製造現場中,顆粒(異物微粒子)、金屬雜質、表面吸附的化學污染(無機/有機污染導致的化學污染)等各種微小污染物,對半導體元件的良率和可靠性產生了越…

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