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矽晶圓AI清洗與乾燥技術 | 主題資料庫 | 三建產業資訊

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IC製造

矽晶圓AI清洗與乾燥技術

3 小時 24T00039
清洗 Si wafer 晶圓 異物 污染物
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大綱內容

尖端半導體元件所要求的矽 (Si) 晶圓特性中,針對晶圓表面的要求,是在各晶圓製造流程後立即維持清潔的表面,同時有效去除微小顆粒異物和金屬污染物等問題,這是晶圓清洗的概念。 本課題針對先進半導體元件用…

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