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【日本專家】微影和光阻劑的尖端技術 | 主題資料庫 | 三建產業資訊

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IC製造

【日本專家】微影和光阻劑的尖端技術

6 小時 24T00027
EUV 微影 抗蝕劑 微細化 光阻 光罩 曝光 奈米壓印
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    隨著手機和資訊設備效能的提高,對記憶體、微處理器等半導體的高度積體化需求不斷增加,2022年迎來3nm邏輯節點(最小圖案12nm),在2025年將推出2nm邏輯節點(最小圖…

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