IC製造
【日本專家】EUV 光阻與金屬光阻的需求特性、課題與對策及最新技術動向
6 小時
25T00174
EUV光阻基礎
EUV光阻要求特性
EUV光阻課題與對策
EUV光阻最新技術
EUV微影（光刻）
微影光刻技術
EUV光阻設計
EUV化學增幅光阻
EUV光阻聚合物
EUV光阻酸生成劑
EUV光阻熄滅劑
EUV光阻感度
EUV光阻解像度
EUV光阻粗糙度
EUV光阻隨機缺陷
EUV光阻開發
EUV金屬光阻
EUV金屬光阻材料
EUV金屬光阻反應機制
EUV金屬光阻性能
EUV金屬乾式光阻製程
EU
勾選多筆主題後，點右下「下載課程」即可將大綱寄至會員信箱
隨著記憶體、微處理器等裝置高積體化的需求增加，以及手機終端、資訊設備等高性能化的推動，這種需求愈發強烈。支撐微細加工的微影（光刻）技術，目前已在最先進的2nm節點量產製程中使用EUV，其重要性持續增大…
完整大綱內容需登入會員後檢視
加入會員，掌握最新開課資訊
主題資料庫為公開展示，需透過公開課程或企業內訓方可報名上課。立即註冊會員，搶先收到此主題開班通知與專屬優惠。
有興趣將此主題導入貴單位？
三建可為企業規劃專屬內訓課程，含客製化大綱、講師派遣與教材配套。
聯絡我們
