IC製造
【日本專家】新型微影光阻劑DRAM記憶體實務應用
6 小時
25T00169
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半導體與液晶元件的高密度化正以驚人的速度推進。為了在更短時間內加工出更微細的線路圖形，高解析度且高感度的光阻材料（光聚合物、Photo Polymer／Resist）的開發至關重要。 具體而言，目前正…
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