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IC製造

【日本專家】半導體Risist基礎與材料設計及環保型新型Risist去除技術

（114包）2025年2月20日（木） 10:30～16:30 小時 25T00124

三建 SUMKEN 光阻技術 Novolak正型光阻劑光阻劑顯影分析儀化學增幅正型光阻劑樹脂溶解抑制劑酸發生劑 i線厚膜光阻劑光阻劑去除臭氧氫自由基微奈米氣泡 ozone micro bubble EUV 極紫外線曝光環保

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詳解光阻材料（感光性樹脂）與製程相關內容，講解Novolak正型光阻劑及極紫外線（EUV）光阻劑的材料設計、感光度與解析度提升技術、化学増幅系3成分（包含基樹脂、溶解抑制劑、酸發生劑）正型光阻劑中的化…

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