清洗工程在半導體製造過程中反覆出現，是決定良率的關鍵步驟，也是最頻繁的工序之一。隨著IC微細化，清洗過程中出現了各種問題，傳統的清洗技術需要突破。例如，在清洗過程中，由於微細圖案在水的表…
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