■主辦單位：三建技術課程、岩手大學分子接合技術研究中心；■協辦單位：i-SB技術平台（岩手縣、岩手縣工業技術中心、岩手產業振興中心）、東北高分子座談會、INS高分子研究會
2024/12/13(五),13:00-17:00
線上視訊
■參加對象：台灣及日本半導體企業人士。
■語言：中日雙向逐步口譯（中日、日中）。
本研討會採視訊線上進行，聽眾對象同時開放日本及台灣兩地企業參加。以逐步口譯提供中文及日文兩種語言。
（1）13:00 - 15:00
Heterogeneous integration technology in GAI era
（2）15:00 - 17:00
聚醯亞胺的高頻用途之低介電損失化設計
(一)胡迪群／SiPlus代表理事兼CEO
【學歷】博士/麻省理工學院材料系
【經歷】欣興電子（unimicron）副總經理、ITRI電子所、美國IBM
(二)富川 真佐夫／TORAY株式会社 研發本部 理事
※免費參加
※選購 - 彩色紙本講義1,680元中譯版(或英文)，或者提供電子檔不印製講義。