三建技術課程
2026/07/03(五),09:30-16:30
台南+線上+新竹
在電子元件製造過程中，光阻去除步驟通常需要大量使用有害化學藥液。透過將其替換為氧化力強的臭氧或還原力強的氫自由基，可以實現環境友善、安全可靠的光阻（聚合物）分解流程。從基礎面而言，氣相（臭氧/氫自由基）與固相（聚合物）之間的非平衡反應解析，也是開發的重要元素。
圖：氫自由基生成室
在半導體、LCD 等電子元件製造中，透過多次重複成膜、圖形製作（光阻塗布、曝光、顯影）、蝕刻、光阻剝離、清洗等工序，微細元件得以在基板上形成圖形化的電晶體。這些工序被稱為微影或光刻（Lithography）流程，通常需重複約 20～30 次。
本講座將特別針對光阻剝離（去除）技術，介紹環境友善的新技術，包括以氫自由基、濕潤臭氧、微氣泡水等作為活性物種的方法。同時，講者將以曾任日本電子元件製造商的專業視角，詳細說明光阻去除的挑戰與【環境友善的新型態的光阻去除技術】。
一、使用氫自由基作為活性物種的去除方法
二、使用濕潤臭氧作為活性物種的去除方法
三、使用臭氧氣泡水作為活性物種的去除方法
四、經離子植入工序後光阻的化學結構與去除技術
■團報3位始得參加線上視訊
| 報名1位 | 報名2位 | 報名3位 | |
|---|---|---|---|
| 原價 (+) | 8,820 | 8,505 | 8,190 |
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