【日本人講師】800GbE/1.6TbE実現に向けた基板技術動向

AI-DC向け高速伝送基板の材料開発競争と、スイッチ・ラインカード・バックプレーンの技術詳細。

2027/01/15(金),13:00-17:00

AIデータセンター向け基板が急拡大する中、Backplane基板やGP-GPU Chiplet基板などの開発動向が注目されています。
特にノード間では、400GbEから800GbE(112Gbps, PAM4)への移行に向けた基板材料の開発が進行中です(M9など)。次世代の目標は、1.6TbE対応の基板材料開発です。

先端材料では、低Dk(Skew低減目的)かつ周波数変動の小さいフッ素樹脂とHC(炭化水素系材料)が重視されており、日本の材料メーカーが現在リードしていますが、世界的な材料開発競争がすでに始まっています。また、関連する高機能フィラーや高速BS材料も並行して開発が進んでいます。

ノード内(GPU間)ではns級レイテンシとTB/s級帯域が期待され、ノード間ではイーサネットやBroadcom Tomahawkシリーズスイッチチップ、InfiniBandによりμs級レイテンシが実現されます。

本講演ではこれらの新材料技術動向を詳説し、実際に採用されている基板を例に、以下の技術詳細を説明します:
(1)スイッチ基板(ASIC搭載PCB)
(2)ラインカード基板(Switch Line Card)
(3)バックプレーン/ミッドプレーン(Backplane / Midplane)

 

(講師が最新の業界動向とリアルタイム情報を反映するため、詳細なセミナープログラムは開催1か月前に確定・公開いたします。)